Koje su metode čišćenja silikonske pločice?

Postoje dvije metode za uklanjanje onečišćenja sa silikonskih pločica: fizičko čišćenje i kemijsko čišćenje.
1. Kemijsko čišćenje je uklanjanje nevidljivog onečišćenja atoma i iona. Postoje mnoge metode, kao što su ekstrakcija otapalom, dekapiranje (sumporna kiselina, dušična kiselina, akva regia, razne miješane kiseline itd.) i plazma metoda. Među njima, metoda čišćenja sustava vodikovim peroksidom ima dobar učinak i malo zagađenje okoliša. Opća metoda je čišćenje silicijske pločice kiselom otopinom s omjerom sastava H2SO4:H2O2=5:1 ili 4:1. Snažno oksidirajuće svojstvo otopine za čišćenje može razgraditi i ukloniti organske tvari; nakon pranja ultračistom vodom koristite lužinu s omjerom sastava H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 ili 5:1:1 ili 7:2:1 zbog oksidacije H2O2 i kompleksiranja NH4OH, mnogi metalni ioni stvaraju stabilne topive komplekse i otapaju se u vodi; zatim upotrijebite omjer sastava H2O:H2O2:HCL=7:2:1 ili 5 : 2:1 kiselu otopinu za čišćenje, zbog oksidacije H2O2, otapanja klorovodične kiseline i kompleksiranja kloridnih iona, mnogi metali stvaraju složene ione koji su topivi u vodi, kako bi se postigla svrha čišćenja.
Atomska analiza radiotracera i analiza masene spektrometrije pokazale su da sustav vodikovog peroksida ima najbolji učinak čišćenja silicijskih pločica, au isto vrijeme svi korišteni kemijski reagensi H2O2, NH4OH i HCl mogu biti potpuno isparljivi. Prilikom čišćenja silicijske pločice s H2SO4 i H2O2, oko 2×1010 atoma po kvadratnom centimetru atoma sumpora ostat će na površini silicijske pločice, koji se mogu potpuno ukloniti potonjom kiselom otopinom za čišćenje. Čišćenje silicijske pločice sustavom H2O2 nema taloga, manje je štetno, a također je korisno za zdravlje radnika i zaštitu okoliša. Nakon što se silikonska pločica očisti otopinom za čišćenje u svakom koraku, mora se temeljito isprati ultra čistom vodom.
2. Postoje tri metode fizičkog čišćenja.
(1) Četkanje ili ribanje: može ukloniti kontaminaciju česticama i većinu filma koji se zalijepio za plahtu.
(2) Visokotlačno čišćenje: površina lima poprska se tekućinom, a tlak mlaznice je visok do nekoliko stotina atmosfera. Čišćenje pod visokim pritiskom oslanja se na prskanje, a foliju nije lako ogrebati i oštetiti. Međutim, visokotlačno prskanje će proizvesti statički elektricitet, koji se može izbjeći podešavanjem udaljenosti i kuta od mlaznice do filma ili dodavanjem antistatika.
(3) Ultrazvučno čišćenje: Ultrazvučna zvučna energija uvodi se u otopinu, a onečišćenje na filmu ispire se kavitacijom. Međutim, teže je ukloniti čestice manje od 1 mikrona s folije s uzorkom. Povećajte frekvenciju na ultravisoki frekvencijski pojas i učinak čišćenja je bolji.